삼성전자, 3Q 시설투자 10조2천억…반도체에 9조1000억

3분기 누적 33조5000억 집행...반도체에 30조

삼성전자 평택캠퍼스 전경. ⓒ삼성전자

삼성전자가 3분기 시설투자에 10조2000억원을 집행한 것으로 나타났다. 반도체에 약 9%가 집중됐다.

28일 삼성전자에 따르면 3분기 시설투자 규모는 10조2000억원으로 사업별로는 반도체에 9조1000억원, 디스플레이에 7000억원 수준이다.

3분기 누계로는 총 33조5000억원이 집행됐는데 반도체가 30조원, 디스플레이가 2조1000억원 수준으로 나타났다.

사업별로 보면 메모리는 2022년 수요 증가 대응과 DDR5(Double Data Rate 5) 등 차세대 제품 준비를 위한 평택·시안 첨단공정 증설, 공정 전환과 함께 미래 수요 대응을 위한 평택 P3 라인 인프라 투자도 진행했다. 파운드리는 평택 극자외선(EUV·Extreme Ultra-Violet) 첨단공정 증설 투자 등을 중심으로 집행됐다.

디스플레이는 QD 디스플레이 생산능력(캐파·CAPA) 확대, 중소형 모듈 투자를 통한 신규 기술 전환 가속화에 중점을 두고 투자했다고 회사측은 설명했다.

삼성전자는 “시황과 연계된 탄력적인 투자 집행 기조를 유지하고 있으며, 부품 수급 이슈 등 불확실성이 높아진 상황을 고려하고 있다”며 “아직 4분기 투자는 검토하고 있는 관계로 이번 실적 발표에서는 2021년 연간 시설투자 전망치를 제시하지 않았다”고 말했다.